Etude des propriétés physico-chimiques des matériaux conducteurs transparents (TCO) déposés par pulvérisation magnétron réactive
Des informations générales:
master |
Le niveau |
Etude des propriétés physico-chimiques des matériaux conducteurs transparents (TCO) déposés par pulvérisation magnétron réactive |
Titre |
| physique des matériaux |
SPECIALITE |
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Sommaire:
Introduction générale
Chapitre I
Etude bibliographique
Introduction
I.1. Rayonnement solaire et conversion d’énergie
I.1.1. Le rayonnement solaire
I.1.2. L’énergie solaire photovoltaïque
I.1.3. Les semi-conducteurs
I.1.4. Jonctions pn
I.1.5 Cellule photovoltaïque
I.1.6 Principe de fonctionnement d’une cellule solaire
I.1.7. Les différents paramètres de la cellule photovoltaïque
a- Courant de court-circuit Icc
b- Tension de circuit ouvert Vco
C- Facteur de forme (FF)
d- Le rendement n
I.1.8. Types des cellules photovoltaïques
a- Panneaux en silicium cristallin (1ere génération)
a.1 Panneaux Silicium monocristallin
a.2 Panneaux en silicium polycristallin
b- Panneaux à couche mince (2ème génération)
c- Les nouvelles technologies (3ème génération)
I.2 Etat de l’art des oxydes (semi)-conducteurs transparents
I.2.1 Propriétés des TCO
I.2.1.1 Les propriétés optiques
a- La transmission T
b- La réflexion R
c- L’absorption A
I.2.1.2 Les propriétés électriques
a- La conductivité électrique
b- La résistance carrée
c- La mobilité
I.3 Les matériaux utilisés
I.3.1 Le dioxyde d’étain (SnO2)
I.3.1.1 Propriétés cristallographiques de dioxyde d’étain
I.3.1.2 Propriétés optiques des films de SnO2
I.3.2. L’oxyde du Nickel (NiO)
I.3.2.1 Propriétés structurale
I.3.2.2 Propriétés optiques de NiO
I.3.3 L’oxyde de Zinc (ZnO)
I.3.3.1 Propriétés cristallographiques de ZnO
I.3.3.2 Propriétés physique de ZnO
I.3.3.3 Propriétés optiques
I.4 Détermination des grandeurs optiques des couches minces
Chapitre II
Introduction
Techniques de caractérisation
Introduction
II.1 Caractérisations structurales
II.1.1 Diffraction des rayons X (DRX)
II.1.2 Microscope électronique à balayage (MEB)
II.2 Caractérisation optique
II.2.1 Spectrométrie UV-Visible
II.3 Les techniques de dépôt
II.3.1 Dépôts par voie chimique
II.3.2 Dépôts par voie physique
Chapitre III
Introduction
III.1 Dispositif expérimental
III.2 Conditions des dépôts des films déposés par PVD
III.2.1 L’oxyde de zinc (ZnO)
III.2.2.L’oxyde de nickel (NiO)
III.3 Caractérisation des films déposés par diffraction des rayons X (DRX)
III.3.1 Le dioxyde d’étain (SnO2)
III.3.2 l’oxyde de nickel
III.3.3 l’oxyde de zinc (ZnO)
(Effet de l’épaisseur sur la couche déposée)
III.4 Etude de la morphologie des films par MEB
III.5 Caractérisation des films par UV-VIS
III.5.1 Propriétés optiques du dioxyde d’étain (SnO2)
III.5.2 propriétés optiques de l’oxyde de nickel (NiO)
III.5.3 Propriétés optiques de l’oxyde du zinc (ZnO)
III.6 Application des couches minces tampons de NiO dans une cellule photovoltaïque organique
Conclusion générale
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