Etude microstructurale et optique des films minces nanostructurés du SnO2 dopé azote par spray pyrolyse ultrasonique
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Etude microstructurale et optique des films minces nanostructurés du SnO2 dopé azote par spray pyrolyse ultrasonique |
Titre |
| Physique des Matériaux |
SPECIALITE |
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Sommaire:
Introduction générale
Chapitre I: Propriétés physico-chimiques de l’oxyde d’étain
I.1. Introduction
I.2. Propriétés générales du SnO2
I.3. Structure cristallographique
I.4. Structure électronique de bandes
I.5. Propriétés optiques
I.6. Propriétés électriques
I.7. Role du dopage sur les propriétés de l’oxyde d’étain
I.7.1. Le dopage par voie direct
I.7.2. Autres voies de dopage
I.8. Applications de l’oxyde d’étain SnO2
I.8.1. Vitrage à isolation thermique
I.8.2. Capteurs à gaz
I.8.3. Piles au lithium
I.8.4. Applications photovoltaïques
I.9. Références
Chapitre II: Elaboration des couches minces de l’oxyde d’étain
II.1. Introduction
II.2. Les couches minces
II.2.1. Définition d’une couche mince
II.2.2 Les étapes de formation d’une couche mince
II.2.3 Classification des modes de croissance
I.2.3.a. Croissance 2D couche par couche (mode de Frank-van der Merwe)
I.2.3.b. Croissance 3D par formation d’ilots (Volmer-Weber)
I.2.3.c. La croissance mixte (mode stranski-Krastanov)
II.3. Méthodes d’élaboration du SnO2
II.3.1. Dépôt physique en phase vapeur (PVD)
II.3.1.1. L’évaporation sous vide
II.3.1.2. Pulvérisation cathodique
II.5.1.3. Ablation laser
II.3.2. Dépôt chimique en phase vapeur(CVD)
II.3.2.1.Méthode de Sol-gel
II.4. Spray pyrolyse
II.4.1. Principe de la technique
II.4.2. Processus de dépôt par spray
II.4.2.a.Génération de l’aérosol
II.4.2.b.Transport de l’aérosol
II.4.2.c.Décomposition chimique
II.4.3. Choix de la technique de dépôt
II.4.3.1. Montage expérimental utilisé
II.4.3.2. Rôle des élements du montage dans le processus de déposition
II.5. Préparation de nos échantillons
II.5.1. Préparation des substrats
II.5.1.1. Choix du substrat de dépôt
II.5.1.2. Nettoyage des substrats
II.5.2. Préparation des solutions
II.5.3. Paramètres modulables de déposition
II.6. Références
Chapitre III: Techniques de caractérisation
III.1. Introduction
III.2. Profilométrie
III.3. Spectroscopie de duffision Raman
II.3.1. Principe de la spactropie raman
II.3.2. Le spectre Raman
III.4. Spectroscopie Infrarouge à Transformée de Fourier (FTIR)
II.4.1. Principe de la spactropie IR
III.5. Spectroscopie UV-Visible
III.5.1. Mesures des propriétés optiques
III.6. Mesures électriques
III.7. Références
Chapitre IV: Résultats et discussions
IV.1. Introduction
IV.2. Optimisation de la concentration de la solution de SnO2 pure
IV.2.1. Résultats de la spectroscopie d’absorption infrarouge FTIR
IV.2.2. Mesures optiques
IV.2.3. Mesures électriques
IV.3. Dopage au Nitrogène
IV.3.1. Préparation des solutions de SnO2 dopées
IV.3.2. Dépôt des couches minces par “spray pyrolyse ultrasonique”
IV.3.2.1. Mise au point du protocole
IV.3.2.2. Paramètres de dépôt
IV.4. Résultats de la spectroscopie d’absorption infrarouge FTIR
IV.5. Mesures par spectroscopie de diffusion Raman
IV.6. Mesures optiques
III.7. Références
Conclusion générale
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