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Master

Le niveau
Influence du taux de dopage par le manganèse Mn sur les propriétés optique du SnO2 préparé par spray pyrolyse ultrasonique

Titre
Génie des Matériaux

SPECIALITE

Page de garde:

Influence du taux de dopage par le manganèse Mn sur les propriétés optique du SnO2 préparé par spray pyrolyse ultrasonique

Sommaire:

Introduction générale Références bibliographiques CHAPITRE I : Propriétés physico-chimiques de l’oxyde d’étain I-1. Introduction I-2. L’étain I-3. Caractéristiques de l’oxyde d’étain I-3.1.Propriétés générales du SnO2 I-3.2.Structure cristallographique I-3.3.Structure électronique de bande du SnO2 monocristallin I-3.4.Propriétés optiques I-3.5. Propriétés électriques I-4. Préparation des poudres nanocristallines du dioxyde d’étain I-4.1.Préparation de SnO2 par voie hydrothermale I-4.2.Préparation de SnO2 par voie “Template” I-4.3.Préparation de SnO2 par voie sol-gel I-5. Les applications de l’oxyde d’étain (SnO2) I-5.1. Vitrage à isolation thermique I-5.2.Les capteurs chimiques I-5.3.Piles au lithium I-5.4.Les applications photovoltaïques I-5.5.Conducteurs transparents I-6.Les références bibliographiques CHAPITRE II :Elaboration des couches minces de SnO2 II-1. Définition de couche mince II-2. Les étapes de formation d’une couche mince II-3. Méthodes d’élaboration des couches minces II-3.1. Procédés physiques II-3.2.Procédés chimiques II-3.3.Dépôt par la synthèse Sol-gel II-3.3.1. Centrifugation ou Spin-coating II-3.3.2. L’enduction laminaire ou Roll-coating II-3.3.3. L’aérosol-gel ou le Spray-coating II-4.Spray-pyrolyse ultrasonique II-4.1.Principe général du procédé spray II-4.2. Influence des paramètres de dépôt par spray sur les propriétés des couches minces II-4.2.1.Influence de la température du substrat II-4.2.2. Influence de la solution du précurseur II-4.2.3. Modèles de dépôt par spray pyrolyse II-5.Choix de la technique de dépôt II-5.1.Montage expérimental utilisé II-5.2. Rôle des éléments du montage dans le processus de déposition II-6. Préparation des substrats II-6.1.Choix du substrat de dépôt II-6.2. Nettoyage des substrats II-7. Préparation des solutions II-8. Paramètres modulables de déposition II-9.Les références bibliographiques CHAPITRE III: Méthode de caractérisation III-1. Mesure de l’épaisseur par profilométrie III-2.Mesures électriques III- 3. Mesures des propriétés optiques III.3.1. La spectroscopie Infrarouge à Transformée de Fourier FTIR III-4. La spectroscopie UV -Visible III-5. Références bibliographique CHAPITRE IV: Résultats et discussions lère partie : Optimisation de la concentration de la solution de SnO2 pure IV-1. Résultats de la spectroscopie d’absorption infrarouge FTIR I V-2. Mesures optique IV-3. Mesures électriques 2ème partie : Dopage au Manganèse IV-4. Résultats de la spectroscopie d’absorption infrarouge FTIR IV-5. Mesures optiques IV-6. Mesures électriques IV-7.Références bibliographiques Conclusion

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